光刻机涉及到大学哪些专业知识
发表时间：2024-07-18 14:25:35
来源：网友投稿
光刻机涉及到的知识有：光学、机械加工、电子电路、化学等多个学科知识。
光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。
对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。
扩展资料：
光刻机的分类
光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动。
1、手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；
2、半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐；
3、自动：指的是从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。
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