光学镀膜“真空溅射”和“离子镀”工作方法
发表时间:2024-07-13 07:00:28
来源:网友投稿
在光学镀膜中,真空溅射和离子镀是两种常用的物理气相沉积(PVD)技术,它们都是在真空环境下工作,通过将目标材料的原子或分子转移到基板上,从而形成薄膜。
**真空溅射**:
真空溅射主要是利用离子束(通常是惰性气体,如氩)轰击目标材料,使得目标材料的原子被溅射出来,这些原子会穿过真空室并沉积在基板(如光学元件)上,形成薄膜。真空溅射可以制备出具有高密度、良好附着力和均匀厚度的薄膜,因此在光学、半导体和其他工业领域得到了广泛的应用。
**离子镀**:
离子镀则是一种更复杂的物理气相沉积技术。在离子镀中目标材料被加热到蒸发,然后在高电压的作用下,蒸发出的原子或分子被电离为离子。这些离子被加速并引导到基板上,形成薄膜。离子镀可以制备出具有高密度、低应力和高抗蚀性的薄膜,特别适用于制备高反射镜和防反射膜等高性能光学膜。
需要注意的是,这两种技术都需要精密的控制和优化,包括控制真空环境、离子源的能量、目标材料的温度等,以达到所需的薄膜性能。
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