mos管工作原理通俗易懂

摘要：mos管是半导体行业最基本的元器件之一，般被用以功率放大电路或开关电源电路而被广泛运用，是一种能够普遍应用在模拟电路与数字电路的场效晶体管，根据工作方式又可以划分增强型和耗尽型。

mos管作为半导体行业最基本的元器件之一，在电子线路中，mos管一般被用以功率放大电路或开关电源电路而被广泛运用。

何为mos管

mos管有的时候也称作绝缘栅场效应管，因为它归属于场效应管中的绝缘栅型，全名是金属—氧化物—半导体场效应晶体管或称金属—绝缘体—半导体场效应晶体管，是一种能够普遍应用在模拟电路与数字电路的场效晶体管。依据其“通道”（工作载流子）的极性差异，可分成“N型”与“P型”的两个类型，也就是常说的Nmos、Pmos。

mos管工作原理

mos管根据工作方式又可以划分增强型和耗尽型，增强型指的是mos管并没有加偏置电压时，并没有导电沟道，耗尽型则指的是mos管并没有加偏置电压时，就会有导电沟道出现。在实际的运用中，也只有N沟道增强型和P沟道增强型的mos管，鉴于Nmos管导通内阻小，且易于生产制造，因此在实际的运用中Nmos要比Pmos要更常见些。

MOS管的工作原理

目前主板或显卡上使用的MOS管并不太多，一般有10个左右。主要原因是大部分MOS管集成在IC芯片中。因为MOS管主要为配件提供稳定的电压，所以一般用在CPU、AGP插槽、内存插槽附近。其中CPU和AGP插槽附近布置了一组MOS管，而内存插槽共用一组MOS管。一般来说MOS管两个一组出现在主板上。工作原理双极晶体管将输入端的小电流变化放大，然后在输出端输出大的电流变化。双极晶体管的增益定义为输出电流与输入电流之比(β)。另一种晶体管叫FET，把输入电压的变化转化为输出电流的变化。它们是电流控制装置和电压控制装置。FET的增益等于其跨导)gm，跨导定义为输出电流的变化与输入电压的变化之比。FET的名字也来源于它的输入栅极(称为gate)，它通过在绝缘层(氧化物SIO2)上投射电场来影响流经晶体管的电流。实际上没有电流流过这个绝缘体(只是电容的作用)，所以FET的栅极电流很小(电容的电流损耗)。最常见的FET在栅电极下使用一薄层二氧化硅作为绝缘体。这种晶体管被称为金属氧化物半导体(MOS)晶体管，或金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)。

mos管工作原理通俗易懂是什么？

在金属中响应外加场的电子密度非常大，以至于外部电场只能穿透很短的距离进入材料。但是在半导体中，可以响应外加场的较低密度的电子（可能还有空穴）足够小，以至于场可以穿透到材料中很远。这种场穿透会改变半导体表面附近的导电性。

发生表面电导的变化是因为施加的场将电子可用的能级改变到距离表面相当大的深度，这反过来又改变了表面区域中能级的占有率。对这种效应的典型处理是基于带弯曲图，该图显示了带边缘的能量位置作为材料深度的函数。

两层结构由绝缘体作为左侧层和半导体作为右侧层。这种结构的一个例子是MOS 电容器，它是一种由金属栅极触点、具有体触点的半导体本体（例如硅）和中间绝缘层（例如二氧化硅）组成的双端子结构，因此指定O）。

导带的最低能级和价带的最高能级。这些电平被正电压V的施加“弯曲” 。

由绝缘体作为左侧层和半导体作为右侧层。这种结构的一个例子是MOS 电容器，它是一种由金属栅极触点、具有体触点的半导体本体 （例如硅）和中间绝缘层（例如二氧化硅）组成的双端子结构，因此指定O）。导带的最低能级和价带的最高能级。这些电平被正电压V的施加“弯曲” 。

按照惯例会显示电子的能量，因此穿透表面的正电压会降低导电边缘。虚线描绘了占据情况：低于该费米能级的状态更可能被占据，导带向费米能级靠拢，表明更多电子在绝缘体附近的导带中。

组成

FET由各种半导体构成，目前硅是最常见的。大部分的FET是由传统块体半导体制造技术制造，使用单晶半导体硅片作为反应区，或者沟道。

大部分的不常见体材料，主要有非晶硅、多晶硅或其它在薄膜晶体管中，或者有机场效应晶体管中的非晶半导体。有机场效应晶体管基于有机半导体，常常用有机栅绝缘体和电极。