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什么是栅氧

发表时间:2024-07-27 23:47:58 来源:网友投稿

栅氧是指MOS器件及其IC中,栅极下面存在一薄层SiO2,此即通称的栅氧(化层)。

当前器件尺寸在不断缩小,要求栅氧厚度不断减薄,但电源电压并不能随之按比例减小,栅介质所承受的电场强度在不断增加

(1)瞬时击穿

(2 ) 与时间有关的介质击穿(TDDB:Time Dependent Dielectric Breakdown )

这是由于在施加电应力的过程中,氧化层内产生并积聚了缺陷(陷阱)的缘故

产生缺陷-〉积累-〉临界值

热电作用击穿

改进措施:

(1)控制原料杂质含量

(2)加工时有效清洁措施

(3)防止Na+,灰尘,玷污

(4)热氧化时应用二步法,三步法氧化

(5)栅氧易受静电作用,产生损伤注意防范,采取保护措施

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