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溅射靶材用途

发表时间：2024-07-28 00:53:03 来源：网友投稿

溅射靶材（Sputtering Target）是在物理气相沉积（PVD，Physical Vapor Deposition）过程中使用的材料。它们常常被用在半导体制造、磁性媒体、薄膜镀层等领域。通过溅射过程，靶材的原子会被撞击后溅射到基片上形成薄膜。这种方法可以制造出高质量、精细、均匀的薄膜。

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