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半导体光刻技术的应用

发表时间：2024-07-28 01:27:58 来源：网友投稿

应用如下：

光刻技术最先应用于印刷工业，并长期用于制造印刷电路板，随后半导体产业开始采用光刻技术制造晶体管和集成电路。光刻胶上的图形通过光刻和刻蚀、离子注入等方式转移到晶圆表面，从而形成电路和元件。所以光刻是集成电路生产中最重要的工艺技术。

在半导体产业的发展历程中，光刻技术的发展经历了多个阶段，如接触/接近式光刻、光学投影光刻、分步(重复)投影光刻等。随着半导体技术的不断发展，目前集成电路生产主要采用扫描式光刻、浸没式扫描光刻、深紫外光刻（DUV）和极紫外光刻（EUV）工艺。另外X射线/电子束光刻、纳米压印、激光直写等技术也在不断发展当中，有望在不久的将来实现更多技术和应用突破。

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