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光刻机光源用的气体

发表时间：2024-07-28 03:04:05 来源：网友投稿

光刻机的光源一般采用氙气（Xenon）或氩气（Argon）等稀有气体，这些气体具有较高的电离能和较低的电子亲和能，能够产生较高的电离率，从而产生较强的紫外线辐射。

其中氙气光源的波长范围较宽，可用于生产线上的快速生产，而氩气光源的波长范围较窄，适用于研究和开发等领域。

另外为了提高光刻机的效率和稳定性，光源还需要配备一些辅助气体，如氮气、氢气、氧气等。

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