什么是nuv光刻机
发表时间：2024-07-28 04:08:47
来源：网友投稿
NUV光刻机是一种利用紫外光(Near UltraViolet)曝光的压感式光刻机。它主要应用于MEMS和集成电路的制作。
NUV光刻的工作原理是:
先将被刻蚀物质(如矽基片)涂覆苯甲酸肼(一种抗紫外光曝光剂),再用NUV光通过掩模(mask)形成特定图案中的开口区域对苯甲酸肼曝光,使其变性。
然后用开发液清洗,将未曝光变性的苯甲酸肼溶掉,将苯甲酸肼保留在需要保留的区域。
最后利用化学刻蚀或离子刻蚀的方法,只将暴露部位(未曝光区域)的基板材料蚀除。从而实现图案转移。
NUV光刻与deep UV光刻的区别是:
NUV光刻使用的紫外光波长在350nm~400nm之间,深紫外光波长小于350nm。
由于波长较长,NUV光具有更好的侵入性和聚焦性,可实现较高的分辨率和线宽,且传输光损耗更低。但对环境和材料有一定要求。
故NUV光刻机主要适用于高分辨率和高精确度的微细处理。
它利用NUV波段紫外光辐照压感膜,能将复杂的图案转移到基片上,常用于MEMS和集成电路的细节加工。
希望以上内容已经回答了您对NUV光刻机的疑问。如仍有问题欢迎继续提问。
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