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常用的掩蔽干扰离子的办法有哪些

发表时间：2024-07-28 04:59:48 来源：网友投稿

配位掩蔽法、沉淀掩蔽法和氧化还原掩蔽法.配位掩蔽法，当溶液中存在其他金属离子N时，由于N与Y发生副反应，降低了条件稳定常数,给M离子滴定带来误差。加上N离子还可能对指示剂有封闭作用。这时可采用配位掩蔽法，就是通过加入掩蔽剂，使掩蔽剂与干扰离子形成稳定配合物，降低溶液中游离N的浓度，从而减小，增大而使M可以单独滴定。沉淀掩蔽法就是加入沉淀剂，使干扰离子产生沉淀而降低N离子浓度。如在强碱溶液中用EDTA滴定Ca（有Mg干扰），强碱与Mg形成Mg(OH)↓，这样Mg就不干扰Ca的测定。氧化还原掩蔽法，就是利用氧化还原反应改变干扰离子的价态以消除干扰。例如Fe是一强的封闭剂，加入还原剂使溶液中Fe还原成Fe，可达到掩蔽作用。在实际应用中最常用的还是配位掩蔽法。氧化还原掩蔽法是指在EDTA滴定过程中加入氧化剂或还原剂，改变干扰离子价态以消除干扰的方式。例如： Bi3+ 和 Fe3+ 共存时，测定Bi3+ 时Fe3+ 有干扰，可加抗坏血酸（维生素C）将Fe3+ 还原为Fe2+ ，大大降低了铁离子和EDTA配合物的稳定性，从而消除Fe3+ 对Bi3+ 测定的干扰。

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