集成度划分和发展趋势
发表时间:2024-07-28 12:13:54
来源:网友投稿
集成度是指图形中最小线条宽度,集成电路的集成度是指单块芯片上所容纳的元件数目,集成度越高,所容纳的元件数目越多,为此对传统的光刻方法进行了很多改进以满足分辨率的要求,增加集成电路的集成度。
集成电路的线宽通常可理解为所加工的电路图形中最小线条宽度,但在MOS电路中,人们也常用栅极长度来定义线宽。集成度与线宽有对应关系,即集成度越高,线宽越小,所以线宽也常用来表示集成电路制造技术水平的高低。
随着大规模集成电路和超大规模集成电路的发展,人们对光刻分辨率的要求愈来愈高。1995年为0.35μm,1998年为0.18μm,现在努力的方向是0.18μm,接着就是0.13μm。很显然原有的光刻工艺已不能满足要求,
一个系统的集成度,是指由系统整体所划分出的子系统的规模与复合程度。
集成度越高计算简单,包含的信息量越少;集成度越低,系统分析计算的模型越复杂,包含的内容也越多,分析更彻底。通常根据需要来选取适当的集成度。
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