为什么磁控溅射要通氩气
发表时间：2024-07-29 12:29:55
来源：网友投稿
在磁控溅射过程中，通入氩气的主要原因是为了产生等离子体。氩气是一种常用的惰性气体，它在磁控溅射过程中扮演了关键角色。
以下是通入氩气的主要原因：
1. 产生等离子体：在磁控溅射中，真空室内施加高电压，使氩气电离形成氩等离子体。氩等离子体中的离子与靶材表面发生碰撞，从而实现溅射过程。
2. 惰性气体：氩气是一种惰性气体，不易与其他物质发生化学反应，这使得它在磁控溅射过程中不会对靶材或沉积薄膜产生化学影响，保证了薄膜的纯度。
3. 清洁靶材表面：氩离子与靶材表面发生碰撞时，会将靶材表面的杂质或氧化物去除，有助于提高薄膜的质量。
4. 提高溅射率：氩气在真空室中产生的氩离子有助于提高溅射过程的效率，从而提高薄膜沉积的速率。
5. 控制气氛：氩气在磁控溅射真空室中可以稀释其他残余气体，有助于维持稳定的工作气氛。
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