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光刻工艺与光刻机区别

发表时间：2024-07-29 12:30:48 来源：网友投稿

光刻工艺与光刻机的区别是技术与工具的区别。

光刻工艺是工程师对所负责的光刻层做工艺参数的设置、优化；对工艺稳定性做日常监测，并及时解决出现的技术问题。一个完整的集成电路制造流程有几十个光刻层，这些光刻层按技术的类似程度分配给光刻工艺工程师，使得他们分别负责一个或者几个光刻层。而光刻机就是指纯机器，用光刻工艺师设计好了的图纸进行加工。

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