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光刻机的专利年限

发表时间:2024-07-29 12:36:42 来源:网友投稿

光刻机的专利年限是20年

专利权期限是指专利权的法定期满终止时间。从专利权授权公告之日起,如无因其它事由造成专利权终止的,则该专利权到专利权期限届满之日终止。根据专利法的规定,发明专利权的期限为二十年,实用新型专利权的期限为十年,外观设计专利权的期限为十五年,均自申请日起计算。

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