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x射线和俄歇电子产生过程

发表时间：2024-07-29 13:35:56 来源：网友投稿

对于一个原子来说激发态原子在释放能量时只能进行一种发射：特征X射线或俄歇电子。原子序数大的元素，特征X射线的发射几率较大，原子序数小的元素，俄歇电子发射几率较大，当原子序数为33时，两种发射几率大致相等。所以俄歇电子能谱适用于轻元素的分析。

所以应该这么理解：

前提：入射电子束的能量固定

1.打入原子序数大的原子时，内层电子走了，去做二次电子摆脱了，留下了空位，另外一层的电子填上，释放的能量虽然可以激发俄歇电子，但电子受原子束缚大，这些能量最好以另外一种快捷的方式释放能量：X射线。

2.如果打入原子序数小的原子，外层电子受到束缚小，二次电子留下的坑，被填后，释放的能量很容易激发外层电子，成为俄歇电子。

换一种例子来说：

金融危机你在公司发生变动，外部热钱涌动（入射电子），要挖人，越多越好，你的大老板拿了钱被挖走了（内层电子跑了成为二次电子），你的小头根本不看钱，急忙顶上了位（次层电子填坑），对你（外层电子）说：公司不景气，内部有笔钱，你要么填上我的位置，好好干，这笔钱就算扔了（X射线），要么你拿钱走，公司不再有你的位置（俄歇电子）。

你陷入了深深的沉思：是跳槽，还是留下来。你开始权衡利弊：

我处在什么公司

1.如果是小公司（原子序数小），上位了的提升幅度不大，遣散费钱那么多，走吧，成为俄歇电子，你想和大老板一样，外面世界这么大，我想去看看。

2.如果是大公司（原子序数大），上位了发展很好，而且给我的遣散费也不多，于是你也上了位，遣散费就算了。

关于应用：

通常来讲特征射线与俄歇电子应用的范围不同。所以俄歇电子能谱所考察的只是固体的表面层。而X射线和表不表面没关系，因为它不是为表面而生的，只能定性。应用的领域不同。如图（图中一直以来都有一个小误区，就是俄歇电子在内部也会有，但是在内部因为非弹性散射，溢不出表面，用不着，但并不代表不会生成

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