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光刻接触孔用什么

发表时间：2024-07-29 22:54:40 来源：网友投稿

提供需要形成接触孔的半导体衬底，在所述半导体衬底上形成有半导体器件的掺杂区和栅极结构，所述栅极结构为平面栅并突出在所述半导体衬底表面上方，所述栅极结构之间具有间隔，第一氮化硅层覆盖在所述栅极结构的顶部表面和侧面以及所述栅极结构外的所述半导体衬底表面，层间膜覆盖在所述第一氮化硅层表面；所述栅极结构为栅介质层和多晶硅栅的叠加结构，在部分或全部所述掺杂区表面以及部分或全部所述多晶硅栅表面形成有自对准金属硅化物。

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