光刻机光强度标准
发表时间：2024-07-29 23:10:01
来源：网友投稿
掩模尺寸：最大7英寸；
- 样品尺寸：最大6英寸；
- 卡盘移动：X,Y,Z,Theta轴手动，楔形补偿调平；
- 紫外光源：6.25“ X 6.25“；
- 光源功率：350瓦紫外灯；
- 光源均匀性：<+/-3%；
- 光源365nm波长强度：最大30毫瓦；
- 显微镜：双显微镜系统；
- 显微镜移动：X,Y,Z轴手动调节；
- 显微镜物镜空间：50-150mm；
- 标配放大倍率：80X-400X；
- 显示器：20“ LCD；
- 曝光时间：0.1-999秒；
- 接触模式：真空接触，硬接触，软接触，接近接触(距离可调)；
- 对准精度：
1、um (Vacuum Contact), 1.5um(Hard Contact), 3um(Soft Contact), 5um(Proximity Mode)；
- 电源：220V，单相，15安培；
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