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高纯晶硅生产工艺流程

发表时间：2024-07-30 02:25:25 来源：网友投稿

现有技术生产太阳能级高纯硅的主要方法有三氯氢硅还原法、硅烷热分解法、冶金法。三氯氢硅还原法也称西门子法，是将工业还原硅与HC1气体合成制备三氯氢硅，然后利用氯化物的低气化点的特性，进行气化分馏4是纯，获得高纯三氯氢硅，三氯氢硅在氢还原炉内与氢反应生成气相沉积硅和HC1气体。该方法生产流程包括硅石还原、硅料预处理、三氯氬硅合成、三氯氬硅蒸馏提纯、氬还原、硅铸锭或定向生长成多晶硅或单晶硅。三氯氩硅还原法是目前电子级高纯多晶硅的唯一生产方法，也是目前太阳能级多晶硅的主要生产方法。但是该方法生产流程长、工艺复杂、控制难度大，生产中大量强腐蚀性和毒性HC1气体对装备要求极高，对环境影响大；另外由于生产中的关4建环节一氢还原三氯氢硅反应转化效率低、反应速度慢。这些因素导致该方法生产效率低、装备成本投入大、生产危险性高，产品成本高。硅烷热分解法与西门子法有类似之处，不同是它采用四氯化硅氢化法、硅合金分解法、氢化物还原法以及硅直接氬化等方法制备硅烷(SiH4),对硅烷进行提纯，提纯后的硅烷进行热分解生成硅和氢气

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