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什么是类朗伯光刻

发表时间：2024-07-31 21:47:45 来源：网友投稿

类朗伯光刻（proximity lithography）是一种光刻技术，用于制造集成电路（IC），也称为半导体工艺。

它是一种非接触光刻技术，用于在光刻胶上图案转移到硅片上。在类朗伯光刻中，光刻胶涂覆在硅片上，并通过接触掩膜上的图案进行照射。由于存在接触或近距离接触，这种方法被称为"类"朗伯光刻。光通过接触掩膜，经过透镜被聚焦到光刻胶上，然后在暴露的地方化学反应固化。之后未暴露的光刻胶被溶解除去，留下图案转移到硅片上，从而形成集成电路的结构。类朗伯光刻具有高分辨率、快速、高生产效率的特点。但是它也有一些限制，例如难以实现亚微米级别的分辨率以及制造超细结构的复杂性。所以在近年来的半导体工艺中，类朗伯光刻逐渐被更先进的光刻技术，如极紫外光刻（EUV）、多光束光刻等所取代。

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