磁控溅射对靶材的要求是什么
发表时间:2024-08-23 16:24:15
来源:网友投稿
首先谈谈膜厚与哪些参数相关:镀膜时间最相关(其他参数不变),镀膜时间越长肯定越厚。
其次功率大小,气体流量大小,样品和靶材之间的间距大小都有关系。控制膜厚首先要能测量膜厚,金属薄膜的话,XRF比较方便,但是要参照标准品建立程序(程序是依照标准样片建立的,标准片越准,你的测量值会越准确)。 金属氧化物薄膜,椭偏仪。不确认材料又比较厚的,台阶仪。AFM可以测量比较薄的薄膜。膜厚测量应该可以写一本书。。。简单描述下。
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