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cvd工艺中有哪两种硅源

发表时间：2024-08-24 18:21:55 来源：网友投稿

CVD工艺中常用的两种硅源是SiO2和SiC。

SiO2是一种常见的硅源，它是一种高纯度的二氧化硅，通常用于制备高纯度的硅材料。SiO2的制备方法包括气相沉积法、溅射法、化学气相沉积法等。SiC是一种新型的硅源，它是一种高纯度的碳化硅，通常用于制备高纯度的碳化硅材料。SiC的制备方法包括气相沉积法、溅射法、化学气相沉积法等。这两种硅源在CVD工艺中都有广泛的应用，可以用于制备高纯度、高硬度、高导电性、高热导率等不同类型的硅材料。

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