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什么是硅热氧化工艺

发表时间：2024-10-06 07:30:35 来源：网友投稿

硅热氧化工艺是一种在硅片表面形成二氧化硅绝缘层的方法。简单来说就是将硅片在高温下与氧气反应，使其表面形成一层薄薄的二氧化硅。这层绝缘层在集成电路制造中非常重要，因为它可以隔离电路中的不同部分，防止电流泄漏，保证电路的正常工作。这个过程不需要化学腐蚀，环保且高效。

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