光刻机到底难在哪里
发表时间：2024-10-13 22:58:32
来源：网友投稿
光刻机是半导体制造的关键设备，其难点主要在于精度和复杂性。首先光刻机需要极高的精度，以在硅片上精确地刻出纳米级别的电路图案，这对光学系统、机械结构和控制系统提出了极高的要求。其次光刻机的光源需要具备极高的稳定性和强度，以实现高分辨率的光刻。光刻过程中产生的热量、应力和污染等因素也会对精度造成影响。所以光刻机的研发需要攻克众多技术难题，包括光学、机械、电子和材料等多个领域的交叉技术。光刻机的难点在于其极高的精度要求、复杂的系统设计和多领域技术的综合运用。
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