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佳能光刻机多少纳米

发表时间：2024-10-15 17:07:09 来源：网友投稿

佳能的光刻机在技术发展过程中，其分辨率（即能够刻画的线条最小宽度）经历了不断升级。早期佳能的光刻机可以达到180纳米的分辨率，但后来随着技术的进步，佳能推出了一系列能达到更小纳米级别分辨率的光刻机。例如在2018年，佳能推出了采用极紫外光（EUV）技术的光刻机，其分辨率可达7纳米，这意味着光刻机可以刻画的线条宽度仅为7纳米。这种极紫外光技术是目前半导体制造领域最先进的制造技术之一，能够满足新一代芯片制造的需求。

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