mocvd外延片工艺流程
发表时间：2024-07-27 21:05:34
来源：网友投稿
MOCVD（金属有机化学气相沉积）外延片工艺流程是一种用于制备半导体材料的方法。首先将金属有机前体和载气引入反应室，通过热解使前体分解生成金属原子和有机基团。
然后将基片放置在反应室中，金属原子在基片表面沉积形成薄膜。在沉积过程中，可以通过控制反应温度、压力和气体流量来调节薄膜的性质。
最后通过退火等后处理步骤来提高薄膜的结晶质量和电学性能。这种工艺流程广泛应用于制备光电子器件、LED和激光器等高性能半导体材料。
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